半導體手套箱
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半導體手套箱

發布時間 : 2025-08-29 10:09

控制：水、氧小于1ppm（純化系統氣體出口）。
調節裝置：通過PLC觸摸式調節（加熱、抽空、凈化、再生）全過程無需人為監控。
工作氣體：N2或Ar（氣體循環）。
循環風機：高速變頻鳳機，流量0-10Qm3/h，微處理器控制，經過壓力測試的不銹鋼裝置。
雙凈化桂：德國BASF除氧材料，美國UOP高效吸水材料。（選配）

凈化閥：德國Burkert，全自動電氣動閥。模塊化設計。
再生系統：用于凈化系統再次利用，使其活化；再生需要N2/H2或A曠H2的混合氣體，真中H2占5-10%。顯示系統：控制單元采用PLC觸摸屏，操作菜單：中文。
真空系統：自動氣控電鍍板；真空泵選用英國Edwards 真空泵（與烤箱公用泵型號可選）

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